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正性光敏聚酰亚胺涂层胶 GX-5500

创建时间:2023-02-27 19:39

 

产品介绍

  1. 显影后,良好的膜厚保持率(92%以上);
  2. 高解析度(膜厚7μm、解析度3μm);
  3. 对多种基材和模压材料具有良好的粘附性;
  4. 良好的耐等离子刻蚀。

技术参数

项目

物性

GX-5500L

GX-5500M

 

应用

正性、应力缓冲、半导体封装

正性、应力缓冲、半导体封装

 

液体性质

固含量

35-37%

37-39

黏度

800-1000mPa•s

1400-1600mPa•s

离子含量

<10ppm

<10ppm

固化后膜厚

1-3um

3-6um

 

膜性质

拉伸强度

>140MPa

>140MPa

玻璃化转变温度

>290℃

>290℃

断裂伸长率

>15%

>15%

模量

>3.0GPa

>3.0GPa

热膨胀系数

<35ppm/℃

<35ppm/℃

 

 

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